《2025-2031年中国半导体湿法设备行业市场全景调研及发展前途研判报告》(以下简称《报告》)。这份报告不仅是对中国半导体湿法设备市场的一次全面而细致的梳理,更是智研咨询多年来持续追踪、实地踏访、深入研究与精准分析的结晶。它旨在帮助行业精英和投资者们更精准地把握市场脉搏,洞察行业趋势,为未来的决策提供有力支持。
《报告》主要研究中国半导体湿法设备产业高质量发展情况,细分市场包含湿法清洗刷洗设备、湿法刻蚀设备、湿法去胶设备三大部分,涉及半导体湿法设备产值、产量、需求量、市场均价、市场规模、市场之间的竞争格局等细分数据。
《报告》从国内外经济环境、国内政策、发展的新趋势等方面入手,全方位分析了半导体湿法设备产业高质量发展状况,对业界厂商掌握产业动态与未来创新趋势提供对应的建议和决策支持。
半导体湿法设备是芯片制造中用于清洗、蚀刻、去胶等一系列工艺的核心装备,它是利用化学溶液和半导体材料来反应来实现特定的工艺目的。半导体湿法设备最重要的包含湿法清洗刷洗设备、湿法刻蚀设备及去胶设备三类。其依据使用场景的不同,湿法清洗技术路线又被细分成单片清理洗涤设施、槽式清理洗涤设施、批式旋转喷淋清理洗涤设施和洗刷器等类别,其中单片和槽式清理洗涤设施是目前主流的清洗设备。
全球主流芯片的制造分为4个阶段:原料制作、单晶生长和晶圆的制造、集成电路晶圆的生产、集成电路的封装。在目前主流的芯片制程中,湿法清洗是主流的清洗技术路线,占芯片制造清洗步骤数量的90%以上。近年来,随着全球半导体行业的加快速度进行发展,半导体清理洗涤设施市场也呈现出强劲的增长势头。据统计,2024年,全球半导体清理洗涤设施市场规模约为794.07亿元,较2023年增加82.35亿元;中国半导体清理洗涤设施市场规模为158.82亿元,较2023年增加30.71亿元。预计2025年全球半导体清理洗涤设施市场规模有望达到880亿元,中国半导体清洗设备市场规模有望达到195亿元。
未来,随着国内晶圆产能扩张(如中芯京城、长存二期)和技术迭代,中国半导体湿法设备企业有望在全球半导体产业链中扮演更重要的角色。未来,随着国内企业技术的不停地改进革新,国产替代加速, 设备将更高洁净度与集成化,智能化升级,国际市场占有率逐步扩大。
半导体湿法设备是用于半导体制作的完整过程中的一系列设备。半导体湿法设备行业产业链上游最重要的包含高纯度化学品(硫酸、氢氟酸、氨水)、超纯水设备系统(超纯水设备系统)等核心材料,以及精密机械部件(耐腐蚀泵、阀门)、传感器与控制系统(温度/压力传感器、PLC控制器)、纳米级过滤器等关键零部件,上游的材料与零部件技术壁垒较高,主要由欧美日厂商占据主要份额;行业中游为半导体湿法设备生产制造;行业下游应用于半导体产品的制作的完整过程中,终端应用于消费电子、汽车电子、AI/数据中心等领域。
目前,全球半导体湿法设备高度集中,市场主要被迪恩士SCREEN、东京电子TEL、泛林LAM与细美事SEMES等日本、美国、韩国等国外企业主导,这四家企业合计占据全球超90%的市场占有率。国内可提供半导体湿法设备的企业最重要的包含至纯科技、北方华创、盛美上海及芯源微。国产设备市场占有率低,但发展迅速。盛美上海、至纯科技、北方华创等企业成果比肩国际领先企业。盛美半导体、北方华创、至纯科技、芯源微等企业已实现部分湿法设备量产,并进入中芯国际、长江存储、华虹集团等国内头部晶圆厂供应链。
智研咨询研究团队围绕中国半导体湿法设备产业规模、产业体系、重点企业情况、产业高质量发展趋势等方面进行深入分析,并针对半导体湿法设备产业发展中存在的问题提出建议,为各地政府、产业链关联企业、投资机构提供参考。
1:本报告核心数据更新至2024年12月(报告中非上市企业受企业信批影响,相关财务指标或存在一定的滞后性),报告预测区间为2025-2031年。
2:除一手调研信息和数据外,国家统计局、中国海关、行业协会、上市公司公开报告(招股说明书、转让说明书、年报、问询报告等)等权威数据源亦共同构成本报告的数据来源。一手资料来源于研究团队对行业内重点企业访谈获取的一手信息数据,主要采访对象有企业高管、行业专家、技术负责人、下游客户、分销商、代理商、经销商以及上游原料供应商等;二手资料来源主要包括全球范围相关行业新闻、公司年报、非盈利性组织、行业协会、政府机构及第三方数据库等。
3:报告核心数据基于智研团队严格的数据采集、筛选、加工、分析体系以及自主测算模型,确保统计数据的准确可靠。
4:本报告所采用的数据均来自合规渠道,分析逻辑基于智研团队的专业理解,清晰准确地反映了分析师的研究观点。
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